KR

가공기술

가공 기술 구현 가능 수준 (조건에 따라 다름) 예시
Flatness & Roughness <Flatness>
• Global Flatness (Ø300mm) : < 200nm
• Local Cell Flatness (□20×20mm) : < 50nm
• Slope X/Y : < 6u rad (RMS, 3×3mm)
<Roughness>
• Sa range of 20~120 nm (SiC, Pin top surface)
• Soft polish 적용 가능
그린 가공
(Green Machining)
• 소결 전 내부 채널 홀 및 Groove 가공 (S-SiC, Si-SiC, Al2O3, Black Al2O3)
곡면 가공
(Curved Surface)
• Radius 1,500~11,500 가능 (Ø420 기준)
본딩 • Adhesive 본딩 (Silicone, Epoxy, Acryl)
: 같은 재질간 혹은 다른 재질간 결합에 사용하는 가장 일반적인 방식
: Paste type, Sheet type
포토척/진공척, ESC, GDP
• Glass 본딩 : 동일재질 간 세라믹류 본딩에 주로 사용, 고온안정성 Ceramic Heater
• 브레이징 : 동종 및 이종 Metal간 본딩, Metal-세라믹 간 본딩 가능 ESC
• Reaction 본딩 : Si-SiC 간의 결합에만 적용 가능 Si-SiC 복잡형 다층 형상 구조물
• 기타 : 용접, Ag Paste, 납땜, 도전성 본딩, 소결 접합 등 적용 가능
미세 패터닝 < Bead Blast > Pin & Grooves
• 최소 핀 사이즈 : Ø 0.15 mm
• 최대 핀 높이 / Groove 깊이: 0.4 mm
(재질, Pin size or Groove 폭에 따라 가능 핀높이 다름)
< Laser > Grooves
• Groove 폭 0.1mm 가능
미세 홀 가공 • 최소 홀 사이즈 Ø 0.1 by MCT / Ultrasonic / Layer drilling
(홀 사양 요구에 따라 가공 방법 달리 적용)